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详细介绍

通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式,苏州清洗设备,通常小功率(200w以下)清洗机用一体式结构,清洗设备,而大功率清洗机采用分体式结构。

超声波清洗机分体式结构由三个主要部分构成 (1)清洗缸; (2)超声波制作生器; (3)超声波换能器;

超声波清洗设施通常可分为通用和两种机型。

楷模的软磁器件超声波清洗设施介绍:被清洗物件从进料口可传动的不锈钢网带送人超声波清洗槽清洗,半导体清洗设备,再经喷淋、烘干等工序后出料,实现被清洗物件可直接包装入库。


眼镜、钟表工业、宝石加工业:

需要清洗的产品:眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件

污染源1:涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2:尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物

使用清洗剂1:有机性洗涤剂,醇类(等)

使用清洗剂2:碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂,纯水


半导体清洗设备|苏州晶淼半导体|清洗设备由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。“半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备”就选苏州晶淼半导体设备有限公司(www.),公司位于:苏州工业园区金海路34号,多年来,苏州晶淼半导体坚持为客户提供优质的服务,联系人:王经理。欢迎广大新老客户来电,来函,亲临指导,洽谈业务。苏州晶淼半导体期待成为您的长期合作伙伴!
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