清洗的注意事项：

(1)当有酸性或强腐蚀性溶液（酸、双氧水）不小心溅到皮肤上时，应立即用无尘布（或无尘纸）轻轻擦掉。然后用清水冲洗。 (2)当吸入过量有机物（、异），半导体，感到头晕、恶心时。一定要向班报告，情形严重的立即就医。

酸加氧化剂清洗:

　　酸加氧化剂清洗液配方为:hci∶h2o2∶h2o=1∶5∶5~1∶10∶10，可溶解碱金属离子，并生成碳酸盐和铝、铁及之氧化物，半导体腐蚀台，另外中离子与残留金属离子发生络合反应形成易溶于水溶液的络合物，也可去除金属污染物。双氧水一方面可以去除有机物污染，另外配合搅拌和超声过程中形成的大量气泡对表面大颗粒污染物产生较大冲击力，使污染物脱离表面。

清洗安全操作规范：

(1)操作前，一定要检查工作台通风是否良好，半导体酸洗机，如有异常，向上级汇报或向动力保障部门说明情况，请求调整；

(2)在通风橱里开启药品，并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套；

(3)试剂开启前，半导体湿法设备，都必须将外面的塑料袋、筋取下并扔进垃圾桶；

(4)拧开药品盖后，取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶，在倾倒药品时，一定要确定塑封膜是否在瓶上。

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