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? ? ? 在清洗工艺中,去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点,半导体清洗设备厂家,尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶,注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键,使光刻胶表面高度交联,半导体清洗设备,形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳,大大增加了光刻胶的去除难度。




清洗的注意事项:

(1)当有酸性或强腐蚀性溶液(酸、双氧水)不小心溅到皮肤上时,半导体清洗设备哪家好,应立即用无尘布(或无尘纸)轻轻擦掉。然后用清水冲洗。 (2)当吸入过量有机物(、异),感到头晕、恶心时。一定要向班报告,情形严重的立即就医。


? ? ??晶圆清洗是半导体制造典型工序中常应用的加工步骤。就硅来说,清洗操作的化学制品和工具已非常成熟,半导体清洗设备价格,有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的支持。所以,硅清洗技术在所有具实际重要性的半导体技术中是为成熟的。第*一个完整的、基于科学意义上的清洗程序在1970年就提出了,这是专门设计用于清除si表面的微粒、金属和有机污染物。


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