? ?rca清洗法:自从20世纪70年代rca清洗法问世之后,几十年来被世界各国广泛采用。它的基本步骤初只包括碱性氧化和酸性氧化两步,半导体清洗设备厂家,但目前使用的rca清洗大多包括四步,即先用含酸的酸性化进行酸性氧化清洗,半导体清洗设备,再用含胺的弱碱性化进行碱性氧化清洗,接着用稀的酸溶液进行清洗,后用含的酸性化进行酸性氧化清洗,在每次清洗中间都要用超纯水(di水)进行漂洗,半导体清洗设备批发,后再用低沸点有机溶剂进行干燥。
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? ? ?半导体清洗机湿式清洗制程中,主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项,晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备,清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污,以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。
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