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主营产品:半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备
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详细介绍

超声波清洗机酿造/制药工业:

需要清洗的产品:瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等

污染源:残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油

使用清洗剂:碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂;有机洗涤剂;纯水


注意事项

1·当操作高压清洗机时:始终需戴适当的护目镜,半导体湿法设备,手套和面具。

2·始终让保持手和脚不接触清洗喷嘴。

3·经常要检查所有的电接头。

4·经常检查所有的液体。

5·经常检查软管是否有裂缝和泄漏处。

6·当未使用喷枪时,半导体,总是需将设置处于安全锁定状态。

7·总是尽可能地使用*低压力来工作,但这个压力要能足以完成工作。

8·在断开软管连接之前,半导体清洗设备,总是要先释放掉清洗机里的压力。

9·每次使用后总是要排干净软管里的水。

10·决不要将喷枪对着自己或其他人。

11·在检查所有软管接头都已在原位锁定之前,决不要启动设备。

12·在接通供应水并让适当的水流过喷枪杆之前,决不要启动设备。然后将所需要的清洗喷嘴连接到喷枪杆上。

注意:不要让高压清洗机在运转过程中处于无人监管的状态。每次当你释放时泵将运转在旁路模式下,半导体清洗台,如果一个泵已经在旁路模式下运转了较长时间后,泵里循环水的过高温度将缩短泵的使用寿命甚至损坏泵。所以,应避免使设备长时间运行在旁路模式。


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