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? ? ??表面清洗正成为此类半导体加工中不断出现的问题。这是因为衬底晶体的低劣质量（而不是其表面洁净度）不再是限定与那些材料有关的制造良率的主导因素。随着各种半导体材料衬底单晶质量的提高，常州半导体清洗，考虑因素就会变化，半导体清洗，会对清洗技术给予更加密切的关注。
超声清洗：
腐蚀后的mcp是由微米级细孔构成的复杂网状结构，泰州半导体清洗，普通的清洗方法一般不能达到孔内，而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用有机溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染，而且能深入mcp孔内的效果。
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