清洗安全操作规范:
(1)操作前,江苏半导体湿法设备,一定要检查工作台通风是否良好,如有异常,向上级汇报或向动力保障部门说明情况,半导体,请求调整;
(2)在通风橱里开启药品,苏州半导体清洗机,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套;
(3)试剂开启前,都必须将外面的塑料袋、筋取下并扔进垃圾桶;
(4)拧开药品盖后,取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶,在倾倒药品时,一定要确定塑封膜是否在瓶上。
水加氧化剂清洗液
? 水加氧化剂清洗液配方为: nh4oh∶h2o2∶h2o=1∶10∶10~1∶20∶20,半导体清洗机,温度为25~40℃,时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性、氧化性和络合性,可以发生氧化反应、产生微蚀刻作用,以达到去除表面颗粒的目的,可以去除一些有机污染物及部分重金属离子污染物。
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