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清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，半导体清洗机，wet station主要清除物质为污染微粒、organic与 metalion、nativeoxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，金华半导体清洗机，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，目前各大设备厂也不断以单芯片清洗设备为主要研发机种。
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