清洗操作的注意事项：

? ? ?在清洗机内作业时，打开机器的通风设备，江苏半导体清洗设备，关闭外窗门，以防止有机溶剂气体扩散到清洗间，污染样品，损害操作人员健康；?保持清洗机内的清洁卫生，不摆放除超声设备、烧杯、花篮以外的其他设备。

超声波清洗机的日常保护与保养

? ? ??1、维持清洗机的任务场合的通风、枯燥、干净，有利于装备的临时高效运转及优化任务环境条件；

　　2、洗净液过于龌龊时应及时处理，活期清算清洗槽、贮液槽内污垢，维持洗净槽内及外观的干净，可进步洗净槽的耐用性；

　　3、电气掌握箱及装备通风口远离水蒸汽、侵蚀性气体、粉尘，活期用收缩空气清算附着的灰尘；

　　4、活期测试装备的绝缘性能，半导体清洗设备厂家，超声波清洗机关于易老化电气组件活期检讨，半导体清洗设备，检讨接地线，确保装备良好接地此名目须由具备专业经历的电工进行，；

　　5、活期测试电源，确认契合装备的电源电压请求，避开在过高或过低的不稳固电源下临时任务；

　　6、带有过滤安装的装备，活期改换过滤芯；清洗机同时供给专业的滤芯超声波清洗机。

　　7、带有传动机构的，应按请求活期加注黄油、机油等光滑剂，苏州半导体清洗设备，活期改换加速机齿轮油，确保静止机件在良好光滑条件下任务；

? ? ?在半导体湿式清洗制程中，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。过去 rca 多槽湿式清洗一直是晶圆清洗的主要技术，不过随着近年来制程与清洗设备的演进，不但在清洗制程中不断产生新的技术，也随着半导体后段封装技术的演进，清洗设备也逐渐进入封装厂的生产线中。

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