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主营产品:半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备
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半导体酸洗机、半导体、苏州晶淼半导体

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详细介绍

超声波清洗机在各个行业的应用

光学、光电、光伏行业:

需要清洗的产品:光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等

污染源1:研磨粉、真漆、、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2:尘垢、盐、手垢

使用清洗剂1:有机性洗涤剂,醇类(等)

使用清洗剂2:碱性洗涤剂,半导体酸洗机,酸性洗涤剂,半导体,中性洗涤剂,纯水


清洗机

机械零部件的污垢主要有润滑脂、防锈及其他混合物组成的油泥,可以采用碱性清洗液清洗、电化学清洗,也可采用超声波清洗机清洗,超声波清洗机清洗是一个清洗的专门类别,属工业清洗。采用碱性清洗液清洗 碱性清洗液化学清洗的工艺流程为:装挂-碱液清洗-水洗(50-90℃热水)-干燥(热压缩空气吹干,要求较高的零部件,经压缩空气吹干后,半导体腐蚀台,还需要在105-1150c的电热鼓风干燥箱中烘烤10分钟. 采用碱性清洗液的电化学清洗 超声波清洗应注意下列点:不宜清洗机件表面较厚的油污,半导体湿法腐蚀设备,油污较厚时需采用高压喷淋的方法进行预清洗,对于弹簧件、薄壁钢件,超高强度钢件等不能在阴极上清洗(为避免材料渗,产生脆现象);对铜、锌、镍等材料制成的机件不能在阳极上清洗(避免材料表面氧化);定期进行电解液的定量分析,按分析结果补充化学试剂。



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