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? ?rca清洗法:自从20世纪70年代rca清洗法问世之后，上海半导体清洗设备，几十年来被世界各国广泛采用。它的基本步骤初只包括碱性氧化和酸性氧化两步，南京半导体清洗设备，但目前使用的rca清洗大多包括四步，半导体清洗设备，即先用含酸的酸性化进行酸性氧化清洗，再用含胺的弱碱性化进行碱性氧化清洗，接着用稀的酸溶液进行清洗，半导体清洗，后用含的酸性化进行酸性氧化清洗，在每次清洗中间都要用超纯水（di水）进行漂洗，后再用低沸点有机溶剂进行干燥。
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? ? ??表面清洗正成为此类半导体加工中不断出现的问题。这是因为衬底晶体的低劣质量（而不是其表面洁净度）不再是限定与那些材料有关的制造良率的主导因素。随着各种半导体材料衬底单晶质量的提高，考虑因素就会变化，会对清洗技术给予更加密切的关注。
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